lc@li-cai.com.tw
886-2-2703-6633
繁體中文
简体中文
English
日本語
選單
繁體中文
简体中文
English
日本語
首頁
關於聯誠
服務領域
專業團隊
實務新知
聯繫我們
選單
首頁
關於聯誠
服務領域
專業團隊
實務新知
聯繫我們
最新消息
首頁
/
最新消息
/
華為申請專利攻5奈米晶片 攜手新凱來突破美科技圍堵
首頁 /
最新消息
華為申請專利攻5奈米晶片 攜手新凱來突破美科技圍堵
2024/03/24
力求突破美國科技圍堵,華為攜手大陸晶片製造設備開發商新凱來技術公司,為一種技術含量低但能有效製造先進半導體的方法申請了專利,在沒有最先進極紫外光(EUV)曝光設備的情況下,也可以生產出5奈米晶片。…
more
2024/03/24 | 資料來源:聯合新聞網
最新消息
專業文章
專利Q&A
商標Q&A
著作權Q&A
法令規章
本所消息
最新消息
專業文章
專利Q&A
商標Q&A
著作權Q&A
法令規章
上一頁
Type to search
搜尋關鍵字: